向中國洩漏半導體機密 前SK海力士員工遭判刑18月
2026/08/09 18:25:00
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韓國半導體大廠SK海力士爆發商業機密外洩案，一名任職於中國辦事處的前員工，因竊取關鍵製造技術並洩漏給中國企業，遭首爾高等法院判處18個月有期徒刑。法官調查指出，被告透過下載、拍攝及列印等方式，非法取得涉及智慧手機與筆記型電腦CMOS影像感測器的核心技術文件，並將其作為求職履歷附件交予中企。儘管被告坦承犯行且海力士已追回多數資料，但此案凸顯半導體產業防範技術外流的嚴峻挑戰，法院最終維持原判。此起洩密事件不僅重創企業商業機密安全，亦引發國際間對於半導體供應鏈技術保護的高度關注。
韓聯社今天報導，韓國一名SK海力士公司的前員工，因向中國企業洩漏有關半導體製造技術的資訊，被判處18個月有期徒刑。
韓聯社表示，首爾高等法院對這起上訴案維持原判。
法官認定，被告於2022年向一家中國公司洩漏了SK海力士的商業機密文件，違反了公司的安全規定。
被告曾在SK海力士駐中國辦事處工作，法官認定，他從海力士內部伺服器下載資料，將資料拍攝或列印下來，放在求職履歷中，交給中國某家公司；那是海力士用於智慧手機相機、筆記型電腦的CMOS影像感測器的相關機密資料。
法院並未公開中國公司名稱。報導指出，被告已承認所有指控，SK海力士也追回他所帶走的絕大部分資訊。
首爾高等法院未立即回覆路透社的置評要求。
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